1. Dustry plasmas : physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
المؤلف: edited by Andre Bouchoule
المکتبة: (طهران)
موضوع: Plasma engineering , Plasma )Ionized gases( , Dusty Plasmas , Plasma chemistry , Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D88
1999
2. Dusty Plasmas: Physics, Chemistry and Technologyical impacts in plasma
المؤلف: / Edited by Andre Bouchoule
المکتبة: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع: Plasma engineering.,Plasma(Ionized gases _ Industrial applications).,Dust.,Plasma chemistry.,Plasma enhanced chemical vapor deposition.
رده :
TA2020
.
D
38
3. Dusty plasma: Physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
المؤلف: / edited by Andre Bouchoule
المکتبة: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع: Plasma engineering,Plasma (Ionized gases)- Industrial applications,Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
4. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
5. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
المؤلف: edited by Andre Bouchoule
المکتبة: (طهران)
موضوع: ، Plasma engineering,Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D8
